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13:09:27【阿斯麦:计划2027年将低数值孔径(Low-NA)EUV光刻机产能增加30%】
财联社7月15日电,阿斯麦计划在2026年约65台低数值孔径(Low-NA)EUV光刻机产能基础上,2027年增加30%产能;公司正在研究2028年再增加30%产能的可行性。
光刻机 环球市场情报 人工智能 半导体芯片
财联社声明:文章内容仅供参考,不构成投资建议。投资者据此操作,风险自担。
阿斯麦Q2业绩超预期 全年销售指引上调 EUV设备收获大批远期订单
2026-07-15 13:09:27 1225537 阅读
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