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07:11:05【预处理涂层技术让下一代晶体管更易制造】
财联社6月22日电,美国能源部普林斯顿等离子体物理实验室科学家,通过计算机模拟发现了一种简单却精妙的涂层技术:用氧或氟对二硫化钼进行预处理,就能让下一代芯片晶体管的制造变得更容易,同时不会殃及其他“无辜”的原子。相关论文发表于新一期《物理化学快报》杂志。
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2026-06-22 07:11:05 263235 阅读
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