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三星电子HBM5细节曝光 或采用铜基HPB散热技术 预计2028年实现量产
①三星电子计划使用其自主研发的2nm工艺制造的芯片生产HBM5;
                ②宋载赫声称,HPB技术已在HBM4E芯片中得到应用和验证,其可靠性和稳定性均已得到充分验证;
                ③此前三星电子已在Exynos 2600芯片中引入HPB技术,可使该处理器的散热性能相比上代提升30%。

《科创板日报》6月2日讯 在今日举行的Computex 2026电脑展上,三星电子首次展示了第八代高带宽存储芯片HBM5,并首次公开推出了HPB(Heat Pass Block,导热块)散热方案。

据《朝鲜日报》等韩媒报道,三星电子计划使用其自主研发的2nm工艺制造的芯片生产HBM5,预计将在2028年左右实现量产。而HPB将是大规模应用于其中的核心热管理技术。

具体而言,HPB是一种集成在芯片封装内的金属导热结构,通常由铜基材料制成,其导热性能比基板、DAF或EMC等聚合物基材料高出约500至1000倍。

“通过增加一个类似烟囱结构的独立传热路径,我们降低了芯片运行温度,提高了运行稳定性,”三星电子首席技术官宋载赫表示:“预计未来它将在高带宽、高密度人工智能环境下,对提升下一代HBM的性能和系统效率发挥关键作用。”

宋载赫声称,HPB技术已在HBM4E芯片中得到应用和验证,其可靠性和稳定性均已得到充分验证。

值得一提的是,作为技术验证的必要环节,此前三星电子已在Exynos 2600芯片中引入HPB技术,可使该处理器的散热性能相比上代提升30%,意味着该散热技术拥有进入移动处理器市场的潜力

而眼下,AI基础设施散热需求正盛,多种热管理技术在存储领域相继涌现。

5月26日,SK海力士推出iHBM解决方案,通过在HBM封装内集成一体化冷却元件“ICE”,以降低产品运行时的发热量。该技术同样将应用于HBM5等下一代产品。SK海力士表示:“该技术与客户现有SiP系统级封装环境具备高度设计兼容性,客户无需进行大规模设计改动,即可直接部署。”

三星电子和SK海力士,为何纷纷革新HBM散热技术?

机构指出,HBM5架构虽然能够以更高的速度处理更大的数据量,但也会导致内部发热量急剧增加。特别是负责HBM与外部GPU之间超高速数据传输的D2D PHY(芯片间物理层),被认为是芯片内部的主要热源之一。而HPB和iHBM的特点是在 D2D PHY 区域内具有独立的散热路径,从而改善热传导和散热,降低热阻并增强系统稳定性。

在散热技术集体升级的预期下,HBM或仍维持供不应求局面。根据TrendForce集邦咨询最新研究指出,三大原厂的HBM年度议价机制,导致HBM合约价无法及时反映市场的季度涨价趋势。随着时序进入2Q26,买卖双方正在对2027年的主流产品HBM4供应进行谈判。TrendForce集邦咨询认为,基于DRAM供不应求市况、新旧世代HBM的高制造难度及高成本,三大原厂将于2027年大幅调高HBM的报价。

半导体芯片 存储芯片
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