《科创板日报》5月26日讯（编辑 宋子乔） 在AI算力需求持续高涨、高端封装基板供应紧张的背景下，英特尔正加速推进其下一代先进封装技术——玻璃基板的商业化进程。据悉，英特尔计划改造其位于新墨西哥州的里奥兰乔（Rio Rancho）工厂，将其打造为全球首个玻璃基板量产基地。

英特尔里奥兰乔工厂

英特尔是全球玻璃基板技术的先行者。早在2023年9月，英特尔便将玻璃基板纳入先进封装路线图，指出玻璃基板相比有机材料可提升最高10倍互连密度，是支撑2030年单封装一万亿晶体管目标的关键路径；2026年1月，在日本NEPCON展会上，英特尔展出首款EMIB（嵌入式多芯片互连桥接）+玻璃芯基板整合样品，采用“10-2-10”堆叠结构，封装尺寸达78×77毫米，实现无微裂纹突破。

英特尔已在玻璃基板架构、工艺、材料和设备方面已积累了超过1000项发明。根据最新进展，英特尔已在亚利桑那州钱德勒（Chandler）园区建立了玻璃基板试验线，但真正的规模化量产将落在里奥兰乔。

据介绍，里奥兰乔工厂最早于1980年启用，并在20世纪90年代末/21世纪初发展成为全球最先进的半导体制造工厂之一，但十多年后，部分设备被闲置并出售。2021年英特尔宣布成立晶圆代工中心，标志着该工厂转型升级，从此专注于先进半导体封装，是美国最先进的一体化封装工厂。

2024年1月，英特尔投入35亿美元升级该工厂，其中5亿美元来自美国《芯片法案》补贴，重点布局EMIB、Foveros3 D封装及硅光子产线。

目前，里奥兰乔工厂（含Fab 9、Fab 11X）占地218英亩，还预留了未来扩建的空间，其核心定位为英特尔AI封装与硅光子制造中枢，现有产线已实现硅光子产品对外供货，改造后将新增玻璃基板量产线，承接“Glass Core”玻璃芯基板生产，配套EMIB技术。

据Forbes报道，消息人士透露，AWS和思科目前是英特尔晶圆代工先进封装服务的客户，而苹果、谷歌、微软、英伟达和特斯拉据称正在就潜在合作进行洽谈。此外，英特尔晶圆代工已与SK海力士在HBM内存领域建立了战略合作伙伴关系。

公开资料显示，英特尔正通过旗下投资部门与3D Glass Solutions（3DGS）等伙伴深化协同，加速玻璃基板设备与工艺配套。2026年4月，英特尔参与的3DGS印度工厂已获批建设，达产后预计年产约7万块玻璃基板，有望为英特尔后续大规模量产提供供应链支撑。

英特尔合作厂商安靠科技（Amkor）在2026年4月的一场产业会议上表示，玻璃基板技术预计“三年内可实现商业化就绪”。业界据此预期首批产品将在2029年至2030年左右推出。

AI浪潮汹涌 玻璃基板加速商业化落地

先进封装是突破芯片制程极限、释放AI算力的关键路径，而基板则是先进封装的核心载体。

传统有机基板在AI芯片高负载、大尺寸封装场景下弊端凸显，面临翘曲加剧、集成良率下降等物理瓶颈，已逐渐逼近其性能极限。相比之下，玻璃基板具备多项压倒性的物理优势。

首先，其热膨胀系数更接近硅材料（可精确控制在3-5 ppm/°C），在高温工艺中能有效缓解热应力问题，翘曲度较有机基板可降低50%以上。

其次，玻璃表面纳米级的平整度使得精细线路加工成为可能，可实现十倍的互连密度提升，这对AI加速芯片的大尺寸、高集成度封装至关重要。

此外，用玻璃基板替代成本高昂、结构复杂的硅中介层，能够显著降低面板级基板的成本，带来巨大的经济效益。

与此同时，市场供给侧的压力也在加速行业转型。2026年以来，全球ABF载板因原材料供应中断及AI需求井喷而价格暴涨，交货期普遍拉长至6个月以上。这一需求的爆发，使得玻璃基板从技术验证向商业化落地转变的迫切性大大增强。

头部企业正在加速布局。据东方证券梳理，SKC及其子公司Absolics有望在今年年底前启动全球首条玻璃基板的商业化量产，该公司生产的原型产品正在接受AMD、亚马逊云科技等头部企业的性能测试。台积电正在推进CoPoS技术，目标通过面板级封装降低成本并提升产能效率，以满足AI芯片客户快速成长需求，中长期导入玻璃基板与玻璃中介层方案可能成为后续重要演进方向。2024年康宁展示了基于玻璃基板的CPO设计方案。

该机构称，玻璃基板在AI加速器及CPU封装基板、CPO、CoPoS技术、Mini/Micro-LED封装等多领域具备广阔应用前景。

浙商证券表示，玻璃基板是全球产业趋势，有望在AI、HPC等高端市场率先落地，目前中美韩等国家正争相布局，2026-2030年将是量产落地的关键窗口期。随着玻璃基板TGV技术迈入攻坚阶段，重点关注先进封装（替代中介层、有机基板）、光模块&CPO领域的进展。

中泰证券称，玻璃基板技术路线已日益清晰，TGV已成为工艺核心，真正实现量产落地的关键仍在于设备环节，产业遵循“设备先行”逻辑。当前国内一条510×515mm玻璃基板产线投资额约13-15亿元，满负荷年产能8-10万平方米，设备价值分布明确：

（1）激光打孔及腐蚀线环节占比约30%，核心设备为激光钻孔设备；

（2）PVD及黄光设备环节占比约50%，对应PVD镀膜机、曝光机等核心装备；

（3）其余约20%覆盖清洗设备、烘烤设备及AOI检测设备等配套环节。三大环节设备需求高度集中，正成为国产厂商率先突破、验证订单加速释放的重要节点。