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中微公司2025年营收、净利增超三成 刻蚀高端产品新增付运量提升明显
①中微公司2025年营业收入约123.85亿元,同比增长约36.62%;实现归母净利润约21.11亿元,同比增加约30.69%;
                ②中微公司刻蚀设备在2025年的销售收入约为98.32亿元,同比增长约35.12%;LPCVD和ALD设备销售同比增长约224.23%。

《科创板日报》2月27日讯(记者 郭辉) 中微公司今日(2月27日)发布2025年度业绩快报。

公告显示,中微公司2025年营业收入约123.85亿元,较2024年增加约33.19亿元,同比增长约36.62%;实现归属于母公司所有者的净利润约为21.11亿元,与上年同期相比,增加约4.96亿元,同比增加约30.69%。

中微公司表示,公司业绩增长主要受益于半导体设备市场发展及公司产品竞争优势,主营产品等离子体刻蚀设备作为半导体前道核心设备之一,市场空间广阔,技术壁垒较高。等离子体刻蚀设备在国内外持续获得更多客户的认可,针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升,先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件超高深宽比刻蚀工艺实现量产。

其中刻蚀设备在2025年的销售收入约为98.32亿元,同比增长约35.12%;LPCVD和ALD设备销售约5.06亿元,同比增长约224.23%。

由于市场对开发多种新设备的需求急剧增长,2025年中微公司加大研发力度。公告显示,2025年中微公司研发投入约37.44亿元,较去年增长12.91亿元,同比增长约52.65%,2025年研发投入占该公司营业收入比例约为30.23%,远高于科创板均值。2025年其研发费用为24.75亿元,较去年增长约10.58亿元,同比增长约74.61%。

中微公司近两年新开发出十多种导体和介质薄膜设备,目前已有多款新型设备产品进入市场,其中部分设备已获得重复性订单,LPCVD设备累计出货量突破三百个反应台,其他多个关键薄膜沉积设备研发项目正在顺利推进;中微公司EPI设备已顺利进入客户端量产验证阶段。

此外,中微公司几款MOCVD新产品进入客户端验证阶段,新型八寸碳化硅外延设备、新型红黄光LED应用的设备已付运至国内领先客户开展验证,目前进展顺利。

由于二级市场股价波动以及中微公司出售了部分持有的上市公司股票,经评估师评估,中微公司2025年计入非经常性损益的股权投资收益为6.07亿元,较上年同期的股权投资收益1.98亿元增加约4.09亿元。

2025年末,中微公司总资产约297.72亿元,较报告期初增加13.56%;归属于母公司的所有者权益约226.95亿元,较报告期初增加14.99%。

中微公司在南昌约14万平方米的生产和研发基地、上海临港约18万平方米的生产和研发基地已经投入使用。中微公司成都研发及生产基地暨西南总部项目则在2025年第四季度开工,计划在2027年建成投产。

2025年12月,中微公司公告筹划通过发行股份的方式购买杭州众硅电子科技有限公司控股权并募集配套资金。杭州众硅主营业务为高端化学机械平坦化抛光(CMP)设备的研发、生产及销售,并为客户提供CMP设备的整体解决方案;主要产品为12英寸的CMP设备。

中微公司表示,公司正与相关方积极推进本次交易的工作,本次交易所涉及的审计、评估等工作正有序进行中。

科创板公司面面观 半导体芯片
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