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14:07:35【浙江征求意见:晶圆制造领域加速突破3-7nm制程 发展离子注入机、涂胶显影、先进制程光刻机、刻蚀机等】
财联社1月12日电,浙江省经信厅牵头编制了《浙江省“十五五”新型工业化规划(征求意见稿)》,现就文稿内容及公平竞争性向社会公开征求意见。征求意见指出,芯片设计与制造领域,突破低功耗芯片设计,发展高端通用芯片、专用芯片、智能芯片等,开发第五代精简指令集架构芯片。晶圆制造领域,加速突破3-7nm制程。关键材料领域,发展化合物半导体材料、电子气体、高纯靶材、光刻胶等。关键设备领域,发展离子注入机、涂胶显影、先进制程光刻机、刻蚀机等。封装测试领域,加快突破芯粒封装、三维异构集成封装、异质封装、脉冲序列测试等技术。新一代半导体领域,发展氧化镓、金刚石、碳化硅、氮化镓等。
半导体芯片 第三代半导体 光刻机 光刻胶 碳化硅 靶材 新型工业化 半导体材料
财联社声明:文章内容仅供参考,不构成投资建议。投资者据此操作,风险自担。
2026-01-12 14:07:35 1177434 阅读
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