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09:56:54【阿斯麦CEO:High-NA EUV光刻改进方案已得到验证 预计2027至2028年大规模量产】
《科创板日报》15日讯,阿斯麦(ASML)首席执行官克里斯托夫·富凯表示,公司为High-NA EUV(高数值孔径极紫外光刻机)所设计的光刻改进方案已得到验证,成像效果极佳,分辨率非常出色。目前公司正与客户合作,以全面完善该光刻系统的成熟度。报道称,阿斯麦将与客户密切配合,确保High-NA EUV在明年内实现停机时间降至最低的稳定运行。富凯预计,High-NA EUV将在2027至2028年间实现大规模量产。
光刻机 半导体设备 半导体芯片
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2025-12-15 09:56:54 2427457 阅读
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