财联社
财经通讯社
打开APP
14:00:14【三星大幅减少未来生产NAND所需光刻胶使用量】
《科创板日报》26日讯,三星已成功大幅减少3D NAND闪存生产光刻工艺中光刻胶的使用量。据消息人士透露,其已制定未来NAND的生产路线图,仅使用目前光刻胶量的一半。 (theelec)
光刻胶 半导体芯片 存储芯片
财联社声明:文章内容仅供参考,不构成投资建议。投资者据此操作,风险自担。
2024-11-26 14:00:14 2562717 阅读
商务合作
专栏
相关阅读
评论
热度
最新
发送