财联社9月19日电，凯美特气、海立股份双双涨停，同飞股份涨超10%，张江高科、波长光电、京华激光涨超5%，蓝英装备、腾景科技等跟涨。

财联社9月18日电，张江高科、同飞股份、海立股份竞价涨停，富乐德、蓝英装备涨超10%，东方嘉盛、国林科技、京华激光、凯美特气。波长光电等涨超5%。消息面上，工信部印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》。其中在电子专用装备目录下，集成电路生产装备包括氟化氩GKJ，光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。

①半导体设备板块景气持续向上，光刻机等关键领域有望快速增长。②三季度行业旺季到来，风电产业链有望迎量利齐升。③第三届全球数字贸易博览会即将召开，跨境支付系统建设或进一步提速。

财联社9月10日电，早盘光刻机概念探底回升，海立股份涨停，钢研纳克涨超10%，张江高科、宝丽迪、蓝英装备、奥普光电等跟涨。消息面上，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）在官网发布声明称，荷兰政府公布了浸润式DUV光刻机出口新规，自9月7日起生效。这意味着，ASML需要向荷兰政府申请出口许可证才能发运TWINSCAN NXT:1970i和1980i DUV光刻机。

《科创板日报》10日讯，台积电将于9月底前引进其首台高数值孔径极紫外(High-NA EUV)光刻机，据悉，此次购入价格远低于原定3.5亿欧元（约27.47亿人民币）的单台报价。

《科创板日报》9日讯，业界传出，台积电首台ASML High NA EUV光刻系统设备传本月将进机，由于该款逾4亿欧元设备且因光镜头镜片无法分拆入厂，高度比一间会议室还高且长度也远超前一代设备，因规格特殊且精密，恐须机场或港口联通的高速公路交管或特定深夜运送入厂避免交通不顺。对于业界传闻，ASML今日提到不评论单一客户。台积电则表示不回应市场传闻。

财联社9月9日电，光刻机概念延续强势，华懋科技6天4板，华亚智能冲击涨停，蓝英装备、东方嘉盛、宝丽迪、京华激光等快速跟涨。消息面上，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）在官网发布声明称，荷兰政府公布了浸润式DUV光刻机出口新规，自9月7日起生效。这意味着，ASML需要向荷兰政府申请出口许可证才能发运TWINSCAN NXT:1970i和1980i DUV光刻机。

财联社9月6日电，荷兰政府宣布扩大对先进半导体制造设备的出口管制措施，即从9月7日起，更多类型的半导体制造设备将受到国家授权要求的限制。这一措施规定，从现在起，公司在出口此类先进制造设备时必须申请授权，政府将根据具体情况对申请进行评估，因此这并不是一项出口禁令，措施适用于从荷兰出口到欧盟以外的目的地。对于这一措施，荷兰光刻机巨头阿斯麦回应称，根据更新的许可证要求，阿斯麦将需要向荷兰政府而不是美国政府申请TWINSCAN NXT:1970i和1980i浸没式DUV光刻机的出口许可证。TWINSCAN NXT:2000i及其后的浸没式DUV系统已经有了荷兰出口许可证要求。阿斯麦EUV系统的销售也受许可证要求的限制。阿斯麦表示，由于这是一项技术性变更，预计不会对公司2024年的财务前景或长期方案产生任何影响。

《科创板日报》6日讯，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）在官网发布声明称，荷兰政府今日公布了浸润式DUV光刻机出口新规，自9月7日起生效。这意味着，ASML需要向荷兰政府申请出口许可证才能发运TWINSCAN NXT:1970i和1980i DUV光刻机。此前，ASML最先进的浸润式DUV光刻机（即TWINSCAN NXT:2000i及后续推出的浸润式DUV光刻机）已被限制，需要荷兰许可证才能发运。此外，ASML EUV光刻机的销售也需要许可证。

财联社9月6日电，午后光刻机、光刻胶概念局部回暖，宝丽迪20CM涨停，华懋科技走出5天3板，七彩化学涨超10%，冠石科技、同益股份、双乐股份、蓝英装备等跟涨。消息面上，美国半导体行业协会 (SIA) 宣布，2024年7月全球半导体行业销售额达到513亿美元，同比增长18.7%，环比增长2.7%。至此，全球半导体已实现连续9个月同比增长。

财联社9月5日电，荷兰计算机芯片设备供应商ASML首席执行官Christophe Fouquet当地时间9月4日在花旗银行的一场会议上表示，美国限制ASML对华出口是出于“经济动机”。他预计该公司应对出口限制的反击措施将会增加。

财联社8月30日电，福晶科技、盛剑科技、东方嘉盛、英唐智控涨停，苏大维格、蓝英装备、晶瑞电材、茂莱光学等涨超5%。消息面上，中国海关总署发布统计数据显示，2024年1至7月，我国半导体设备进口金额再创新高。今年前七个月，我国进口半导体制造设备共3.6万台，相比去年增加了17.1%，金额达1638.6亿元，同比增长51.5%

《科创板日报》19日讯，三星传将减少ASML新一代极紫外光(EUV)光刻机的采购规模，双方在韩国建设研发中心的合作计划存在中断可能。

《科创板日报》19日讯，SK海力士EUV材料技术人员表示，该企业计划于2026年首次导入ASML的High NA EUV光刻机。SK海力士新近成立了一个High NA EUV研发团队，正致力于将High NA EUV光刻技术应用到最先进DRAM内存的生产上。

《科创板日报》16日讯，三星计划在今年年底或2025年第一季度引入其首台High-NA EUV光刻机“EXE:5000”，预计该设备将用于晶圆代工业务。目前，ASML仅制造了8台EXE:5000设备，其中多台已经被英特尔公司预定。

《科创板日报》7日讯，荷兰国家应用科学研究院Stodolna等提出了一种能够产生氢等离子体的实验装置，以便进一步研究改进EUV光刻。之前的等离子体发生器非常复杂，需要大量资源，但该团队的装置非常简单，使用机的是市场上可买到的技术。他们的装置主要依靠高压、大电流电子束枪，该电子束枪可以产生短电子脉冲，通过电子撞击电离产生等离子体。在测试中，它能够再现EUV生成等离子体的关键参数。

《科创板日报》6日讯，英特尔证实，其位于美国俄勒冈州的制造工厂正在导入第二台高数值孔径极紫外(High-NA EUV)光刻机。

财联社8月2日电，ASML在美股盘前下跌5%，报839美元/股。