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EUV光刻机是生产最新、最强大芯片必要设备,目前由ASML独家进行研发、制造,ASML公司掌握80%的国际市场份额,市面上无法寻找到其他替代品
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  • 12-26 11:18 来自 财联社
    财联社12月26日电,企查查显示,近日,上海玻纳刻科技有限公司中标8.6代有源矩阵有机发光显示器件生产线项目,招标人为合肥国显科技有限公司。企查查信息显示,上海玻纳刻科技有限公司成立于2025年7月,经营范围包含:半导体器件专用设备制造;电子专用设备制造;智能基础制造装备制造;光学仪器制造等,由上海芯上微装科技股份有限公司全资持股。公开信息显示,芯上微装是一家专注于高端半导体装备研发、生产和服务的科技企业,其核心业务包括光刻机的设计与制造。
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  • 12-25 13:54 来自 财联社
    财联社12月25日电,午后光刻机概念异动拉升,国风新材直线涨停,走出3天2板,华软科技、华融化学、高盟新材、盛剑科技、西陇科学等冲高。
    国风新材
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    西陇科学
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  • 12-22 09:01 来自 Tom's Hardware
    《科创板日报》22日讯,比利时微电子研究中心(IMEC)已成功利用阿斯麦最先进的极紫外光刻(EUV)设备,实现了纳米孔的全晶圆级制造,纳米孔的特性在生物医学领域极具研究价值。阿斯麦公司公关负责人将此称作其公司设备“一项出人意料的卓越生物医学应用”。鉴于纳米孔为分子传感技术开辟的广阔前景,这项突破或将成为该领域的重要进展。
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  • 12-18 21:53 来自 财联社
    财联社12月18日电,阿斯麦盘前涨幅扩大至3%。
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  • 12-18 09:35 来自 财联社
    财联社12月18日电,早盘光刻机概念异动拉升,凯美特气、奥普光电涨停,新莱应材、蓝英装备、波长光电、京华激光等冲高。
    京华激光
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    奥普光电
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  • 12-16 13:57 来自 财联社
    财联社12月16日电,午后光刻机概念逆势拉升,波长光电涨近10%,安达智能、沃格光电、茂莱光学、强力新材、凯美特气、兴福电子、高盟新材等跟涨。
    沃格光电
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    茂莱光学
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  • 12-15 09:56 来自 财联社
    《科创板日报》15日讯,阿斯麦(ASML)首席执行官克里斯托夫·富凯表示,公司为High-NA EUV(高数值孔径极紫外光刻机)所设计的光刻改进方案已得到验证,成像效果极佳,分辨率非常出色。目前公司正与客户合作,以全面完善该光刻系统的成熟度。报道称,阿斯麦将与客户密切配合,确保High-NA EUV在明年内实现停机时间降至最低的稳定运行。富凯预计,High-NA EUV将在2027至2028年间实现大规模量产。
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  • 12-10 15:20 来自 财联社
    财联社12月10日电,德意志银行将阿斯麦(ASML)目标价从1000欧元上调至1150欧元。
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  • 12-10 14:26 来自 财联社
    财联社12月10日电,花旗集团将阿斯麦目标股价从1050欧元上调至1200欧元。
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  • 12-02 15:02 来自 财联社
    财联社12月2日电,美国商务部在周一发布的一份新闻稿中表示,特朗普政府已同意向试图在美国开发更先进半导体制造技术的初创公司xLight注资最多1.5亿美元。作为回报,美国政府将获得xLight的股权,有可能成为xLight的最大股东。
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  • 12-02 13:07 来自 财联社 卞纯
    事关光刻技术!特朗普政府又对战略产业出手:将入股xLight
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  • 12-01 21:07 来自 科创板日报记者 吴旭光
    光刻胶板块领涨科技股 国产龙头公司布局提速
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  • 12-01 13:37 来自 财联社
    财联社12月1日电,午后光刻胶概念异动拉升,容大感光涨超10%,此前国风新材涨停,南大光电、锦华新材、高盟新材、彤程新材、兴业股份等快速冲高。消息面上,容大感光在互动平台表示,公司部分光刻胶产品在关键性能指标上已实现对部分日系产品的替代,并已在部分客户中实现批量应用。
    锦华新材
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    南大光电
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  • 11-26 10:45 来自 财联社
    《科创板日报》26日讯,据芯上微装公众号消息,公司自主研发的首台350nm步进光刻机(AST6200)正式完成出厂调试与验收,启程发往客户现场。据介绍,AST6200光刻机专为功率、射频、光电子及Micro LED等先进制造场景量身定制。
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  • 11-22 15:10 来自 财联社 若宇
    万亿级券商或诞生 本周披露并购重组进展的A股名单一览
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  • 11-19 10:31 来自 财联社
    财联社11月19日电,据洪田股份官微消息,近日,洪田股份旗下洪镭光学自主研发的应用于半导体掩模版领域的直写光刻机与TGV玻璃基板直写光刻机顺利下线,完成打包装运并发往订单需求客户。此次下线并交付的掩模版直写光刻机,是一台最小线宽线距解析能力为2.5μm,对位精度为±2μm的高精度的激光直写光刻设备,可满足客户L/S为3μm的掩模版产品的量产光刻需求。同时下线并交付客户的另一台直写光刻机,是应用于TGV玻璃基板领域,最小线宽线距解析能力为6μm,对位精度为±4μm,可满足510mm*515mm尺寸TGV玻璃基板生产需求的直写光刻设备。
    洪田股份
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  • 11-18 10:19 来自 财联社
    财联社11月18日电,光刻胶概念盘中异动拉升,同益股份直线拉升涨停,凯美特气触及涨停,张江高科、茂莱光学、新莱应材、波长光电、海立股份等跟涨。
    张江高科
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    凯美特气
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  • 11-12 15:16 来自 财联社
    财联社11月12日电,据韩国京畿道政府声明,阿斯麦(ASML)斥资约2400亿韩元(合1.64亿美元)在首尔以南的华城新建基地,该园区包含设备再利用与维修中心、培训中心及办公楼。新园区预计每年可培训约2000名技术人才。
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  • 11-12 12:30 来自 财联社
    《科创板日报》12日讯,荷兰芯片设备制造商阿斯麦(ASML)韩国华城园区竣工。阿斯麦华城园区总面积1.6万平方米,设有深紫外(DUV)光刻、极紫外(EUV)光刻等设备零部件再制造中心和先进技术培训中心。据悉,阿斯麦曾发布到2025年投资2400亿韩元在华城市建造半导体设备集群的计划。
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  • 11-07 21:26 来自 财联社
    《科创板日报》7日讯,ASML全球执行副总裁、中国区总裁沈波在接受《科创板日报》采访时表示,"2023年之前,中国市场在ASML全球销售额中的占比多年维持在15%~20%。预期明年回归历史常规水平,是一个正常化的表现。过去这两年中国市场份额占比较高,是因为不同地区客户需求的时间节点发生一些变化,使我们有能力交付了一些此前的积压订单,自然带来一波成长。这部分产能需要一些时间消化,这也会导致周期性地出现变化,是正常的情况。”(记者 黄心怡)
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