财联社12月22日电，招商策略研报认为，A股在未来两年出现大级别上行的概率较大。展望2025年，建议关注政策十大领域。一是财政有望更加积极，建议关注三大发力方向；二是货币政策将适度宽松，但需关注外部两大事件对降准降息节奏的影响；三是消费领域，以旧换新政策有望进一步扩大规模及支持范围，整个消费板块都值得关注；四是投资领域，建议重点关注设备更新（尤其是央企设备更新）与“两重”持续发力；五是低空经济，建议关注应用场景落地；六是车路云，建议重点关注应用场景落地；七是综合整治内卷式竞争，新一轮供给侧改革有望开启。八是数据要素，建议重点关注公共数据应用落地；九是自主可控，建议关注信创、国产算力、光刻机等；十是资本市场，建议重点关注央国企并购重组。

《科创板日报》19日讯，Rapidus已开始在位于北海道的在建芯片制造工厂安装日本首台ASML极紫外(EUV)光刻设备。 公司正与IBM合作，计划于2025年春季采用最先进的2nm工艺开发原型芯片，并于2027年实现量产。

财联社12月3日电，国林科技20CM涨停，新莱应材涨超5%，珂玛科技、东方嘉盛、蓝英装备、张江高科、晶方科技、波长光电等跟涨。

《科创板日报》15日讯，日本先进半导体代工企业Rapidus购入的第一台ASML EUV光刻机将于2024年12月中旬抵达北海道新千岁机场，这也将成为日本全国首台EUV光刻设备。根据Rapidus高管以往表态，该光刻机是较早期的0.33 NA型号，而非目前全球总量不足10台的0.55 NA（High NA）款。

《科创板日报》15日讯，SK海力士技术长Seon-yong Cha表示，正考虑引进ASML造价4亿美元的High NA EUV光刻设备，生产下一代存储芯片。

财联社11月14日电，ASML首席执行官称，到2030年，约40%的芯片业务将围绕人工智能展开。

财联社11月14日电，ASML表示，将AI视为芯片行业“下一个大驱动力”。

财联社11月14日电，ASML预计，2025年至2030年，先进逻辑和DRAM的EUV微影技术支出复合年增长率将达到两位数。

财联社11月14日电，ASML预计到2030年全球半导体销售额将超过1万亿美元，预期2025-2030年间半导体市场年度增长率约为9%。

财联社11月14日电，ASML表示，预计公司有能力将EUV技术扩展到下一个十年，并扩展多功能整体光刻产品组合。

财联社11月14日电，ASML维持2030年销售额预期在440亿欧元-600亿欧元不变。ASML预计2030年毛利率仍将在50%-56%。

财联社11月14日电，光刻机概念持续走弱，红宝丽、海立股份跌停，张江高科、奥普光电、晶方科技、艾森股份、上海新阳等多股跌超5%。

财联社11月9日电，ASML发言人称在周五遭遇了一次IT系统故障，目前问题已解决，所有系统已恢复。

《科创板日报》4日讯，TechInsights表示，每台ASML 0.33 NA EUV光刻机的功耗就已经达到了1170kW，而0.55NA (High NA) 光刻机的功耗预计将进一步增长至1400kW。

财联社11月4日电，永新光学5天4板，此前海立股份涨停，强力新材、华软科技冲击涨停，斯迪克、茂莱光学、富乐德等多股涨超5%。消息面上，根据SEMI数据，2Q24全球半导体设备出货金额同比增长4%，达到268亿美元，环比微幅增长1%，其中，中国大陆2Q24半导体设备出货总额为122.1亿美元，同比成长62%，规模和增速在全球范围领先。

《科创板日报》1日讯，当地时间周四，拜登政府宣布将在纽约州奥尔巴尼市投资8.25亿美元，建造国家半导体技术中心（NSTC）的关键设施。美国商务部表示，纽约州奥尔巴尼的场地将专注于极紫外（EUV）光刻技术。

《科创板日报》1日讯，台积电预计将于今年年底从ASML接收首批全球最先进的高数值孔径极紫外光刻机。

财联社11月1日电，张江高科、永新光学均2连板，茂莱光学、炬光科技、海立股份涨超5%，波长光电、蓝英装备、国林科技、东方嘉盛等跟涨。消息面上，广东近日印发加快推动光芯片产业创新发展行动方案(2024—2030年)，其中提出，大力推动刻蚀机、键合机、外延生长设备及光矢量参数网络测试仪等光芯片关键装备研发和国产化替代。