财联社12月3日电，国林科技20CM涨停，新莱应材涨超5%，珂玛科技、东方嘉盛、蓝英装备、张江高科、晶方科技、波长光电等跟涨。

《科创板日报》15日讯，日本先进半导体代工企业Rapidus购入的第一台ASML EUV光刻机将于2024年12月中旬抵达北海道新千岁机场，这也将成为日本全国首台EUV光刻设备。根据Rapidus高管以往表态，该光刻机是较早期的0.33 NA型号，而非目前全球总量不足10台的0.55 NA（High NA）款。

《科创板日报》15日讯，SK海力士技术长Seon-yong Cha表示，正考虑引进ASML造价4亿美元的High NA EUV光刻设备，生产下一代存储芯片。

财联社11月14日电，ASML首席执行官称，到2030年，约40%的芯片业务将围绕人工智能展开。

财联社11月14日电，ASML表示，将AI视为芯片行业“下一个大驱动力”。

财联社11月14日电，ASML预计，2025年至2030年，先进逻辑和DRAM的EUV微影技术支出复合年增长率将达到两位数。

财联社11月14日电，ASML预计到2030年全球半导体销售额将超过1万亿美元，预期2025-2030年间半导体市场年度增长率约为9%。

财联社11月14日电，ASML表示，预计公司有能力将EUV技术扩展到下一个十年，并扩展多功能整体光刻产品组合。

财联社11月14日电，ASML维持2030年销售额预期在440亿欧元-600亿欧元不变。ASML预计2030年毛利率仍将在50%-56%。

财联社11月14日电，光刻机概念持续走弱，红宝丽、海立股份跌停，张江高科、奥普光电、晶方科技、艾森股份、上海新阳等多股跌超5%。

财联社11月9日电，ASML发言人称在周五遭遇了一次IT系统故障，目前问题已解决，所有系统已恢复。

《科创板日报》4日讯，TechInsights表示，每台ASML 0.33 NA EUV光刻机的功耗就已经达到了1170kW，而0.55NA (High NA) 光刻机的功耗预计将进一步增长至1400kW。

财联社11月4日电，永新光学5天4板，此前海立股份涨停，强力新材、华软科技冲击涨停，斯迪克、茂莱光学、富乐德等多股涨超5%。消息面上，根据SEMI数据，2Q24全球半导体设备出货金额同比增长4%，达到268亿美元，环比微幅增长1%，其中，中国大陆2Q24半导体设备出货总额为122.1亿美元，同比成长62%，规模和增速在全球范围领先。

《科创板日报》1日讯，当地时间周四，拜登政府宣布将在纽约州奥尔巴尼市投资8.25亿美元，建造国家半导体技术中心（NSTC）的关键设施。美国商务部表示，纽约州奥尔巴尼的场地将专注于极紫外（EUV）光刻技术。

《科创板日报》1日讯，台积电预计将于今年年底从ASML接收首批全球最先进的高数值孔径极紫外光刻机。

财联社11月1日电，张江高科、永新光学均2连板，茂莱光学、炬光科技、海立股份涨超5%，波长光电、蓝英装备、国林科技、东方嘉盛等跟涨。消息面上，广东近日印发加快推动光芯片产业创新发展行动方案(2024—2030年)，其中提出，大力推动刻蚀机、键合机、外延生长设备及光矢量参数网络测试仪等光芯片关键装备研发和国产化替代。

《科创板日报》30日讯，据报道援引消息人士称，三星电子将从ASML引进首台High-NA EUV光刻机EXE:5000，预计2025年初到货。半导体设备安装通常需要较长测试时间，该光刻机预计最快2025年中旬开始运行。High-NA EUV为2纳米以下先进制程所需设备，韩国业界预期，三星也将正式启动1纳米芯片的商用化进程。

财联社10月29日电，百傲化学回复上交所关于增资控股芯慧联的监管函称，芯慧联系国内少数能够供应匹配先进制程工艺的黄光制程设备的企业之一。芯慧联基于对先进制程工艺设备在技术、工艺、开发流程等方面的深度理解，以及核心技术团队人员多年在国际大型半导体设备企业中工作所积累的行业经验和行业资源，可为下游晶圆厂客户提供涵盖组装、翻新、改造在内的综合化服务，满足下游客户定制化产线工艺需求。同时，为推动半导体设备的国产化供给进程，芯慧联持续在涂胶显影机、湿法清洗设备、半导体产线用自动化设备等方面开展自主研发，并均已取得了一定成果，在湿法清洗设备和半导体产线用自动化设备方面已经取得了商业化收入。公司拟通过增资方式持有标的公司46.6667%股权，并通过接受表决权委托方式合计控制其54.6342%股权的表决权，从而取得其控制权。通过跨界收购标的公司，为公司注入盈利能力较强的优质资产，公司可以实现从精细化工行业向半导体专用设备行业的拓展，提升公司资产质量，有助于形成公司第二增长曲线，有利于充分保障公司及全体股东利益。

财联社10月22日电，ASML首席执行官表示，2025年仍将是增长的一年，并且从长远仍然看到增长潜力。