《科创板日报》22日讯，业内人士今日透露，三星电子位于美国得克萨斯州泰勒市的工厂建设进度已完成99.6%，基本完工。一般情况下，设备已在该时点启动进厂，但三星不愿下单。三星电子晶圆代工业务在韩国国内已经接连亏损，在成本相对更高的美国厂恐怕将面临更加不利的处境。三星对外表态是，泰勒厂将按照原计划在2026年投入运营，但三星内部预期是，根据市场情况和订单情况，销售额将较低。三星电子内部人士表示，“通常情况下，工厂建成后3至6个月内就会引进设备，但考虑到三星电子一直拖延设备投资，因此在设备进口时需要缴纳高额关税的可能性很高。且由于向美国派遣有限的劳动力比较困难，因此雇佣人力资源的成本也会很高。”另外，ASML的极紫外（EUV）设备每台成本高达5000亿韩元，仅关税一项就可能达到数千亿韩元。

财联社4月17日电，光刻机巨头阿斯麦（ASML）4月16日在第一财季业绩沟通会上表示，2025年中国市场对ASML芯片制造工具的需求强于预期。“我们最初设定的是20%，后来又定在20%的低位。现在稍微高了一点。所以我们现在可能希望达到25%以上，”ASML首席财务官戴厚杰（Roger Dassen）在电话会议上表示，来自中国的需求依然坚挺，比公司三个月前或六个月前预测的更好一些。对于公司是否像台积电一样将光刻机制造工厂转移到美国，以应对潜在关税影响，ASML表示没有相关计划。

《科创板日报》16日讯，ASML首席财务官戴厚杰在财报视频访谈中表示，关税的潜在影响大致可以分为：对运往美国的整机系统征收关税；对在美国现场作业时使用的零部件和工具征收关税；在美国有生产制造环节，进口到美国并在美国进行下一步制造的材料也会被征收关税；其他国家对从美国发运的商品征收关税（如适用）。戴厚杰称，目标将关税对业绩的影响尽可能保持在最低限度。（记者 黄心怡）

财联社4月14日电，午后高盟新材涨超10%，此前格林达涨停，飞凯材料、茂莱光学、波长光电、西陇科学、华特气体等涨幅靠前。消息面上，国际半导体产业协会（SEMI）最新发布的数据显示，2024年全球半导体制造设备出货金额达到1171亿美元，较2023年的1063亿美元增长10%，重回高增长轨道。

① 高端ArF光刻胶领域，国产企业基本都还在研发、验证阶段；
②公司表示，与国内大部分厂商所生产的g/i系列光刻胶应用于6英寸、8英寸晶圆制造不同，恒坤新材生产的同类型产品应用于12英寸晶圆制造；
③各大晶圆厂商鼓励并支持同一家光刻材料企业能够尽可能供应多种光刻材料。

财联社3月6日电，荷兰光刻机巨头ASML近期举行年报会议。据透露，ASML计划2025年在北京开设一个新的回收与维修中心（Reuse & Repair Center）。目前，ASML在亚洲（韩国、中国台湾和中国大陆）、美国（威尔顿、圣地亚哥、华盛顿州温哥华）和欧盟（费尔德霍芬）设有维修中心，与当地供应商和专业维修合作伙伴合作，打造本地生态系统。

《科创板日报》5日讯，阿斯麦（ASML）今日公布2025年度股东大会议程，会议将于2025年4月23日在ASML位于菲尔德霍芬的礼堂举行。此外，ASML还宣布现任监事会委员Annet Aris在其任期届满后不再寻求连任，监事会提名Karien van Gennip出任新任监事会委员。

《科创板日报》5日讯，在阿斯麦（ASML）今日发布的2024年度报告中，首席执行官克里斯托弗·福凯（Christophe Fouquet）表示：“如果我展望ASML的未来增长，光刻技术无疑仍然是摩尔定律的主要驱动力之一，我们相信这一点在未来许多年里依然成立。与此同时，正如我们几年前就意识到的，二维收缩（2D shrink）正变得越来越困难。这并不完全是由于光刻技术的局限性，而是因为我们几乎达到了逻辑和存储器客户所使用的晶体管的极限。为了继续在二维收缩方面取得进展，我们需要在架构和器件上进行创新。这意味着需要进行三维前道整合（3D front-end integration），而这将为我们带来增长机会——因为三维整合技术依赖于键合（Bonding），而这又需要一体化光刻技术（holistic lithography）。我认为，三维整合将成为二维收缩日益重要的补充技术或技术组合。”

《科创板日报》5日讯，阿斯麦（ASML）今日发布了主题为“携手推进技术向新”的2024年度报告。对于2025年及以后的首要任务，ASML首席执行官克里斯托弗·福凯（Christophe Fouquet）表示：“当务之急是继续与客户的路线图保持一致。我们的客户在未来几年将面临许多艰难的选择，他们必须确保所选择的技术能够实现他们所需要的结果。我们意识到，向下一代光刻系统的转变可能会给客户带来非常高昂的成本。我们的任务和机会就是要了解如何帮助他们，并开发出能够使他们以尽可能低的风险和尽可能低的成本实现质量目标的产品和服务。”

财联社1月29日电，阿斯麦（ASML）股价在欧洲上涨11%，第四季度订单超过预期。ASML周三公布第四季度订单额为70.9亿欧元，远超分析师所得的平均预估35.3亿欧元。

财联社1月23日电，荷兰首相斯霍夫日前在接受采访时表示，在荷兰光刻机巨头阿斯麦对华出口产品的问题上，荷兰政府希望自行决定实施什么样的政策。斯霍夫在出席世界经济论坛2025年年会期间接受采访时说，美国拜登政府就限制阿斯麦对华出口先进芯片制造设备向荷兰政府施加了相当大的压力，预计特朗普政府将延续这一策略。“我认为，我们自行决定实施什么样的政策非常重要。”斯霍夫说，荷兰与中国保持着良好的贸易关系，将与中国就相关问题交换意见。

①据悉，大孔径铥激光器或有望取代EUV采用的二氧化碳激光器；
②BAT系统使用掺铥元素的氟化钇锂作为增益介质，从而增加激光束的功率和强度；
③此外，BAT系统中使用的二极管泵浦固态技术可以提供更好的整体电气效率和热管理。

《科创板日报》6日讯，据报道，阿斯麦（ASML）下周将由CEO克里斯托夫·富凯（Christophe Fouquet）带领多位高层，与台积电董事长兼总裁魏哲家、共同营运长秦永沛等多位高管会面。供应链认为，ASML将进一步了解台积电未来数年制程技术Roadmap与采购计划，并希望台积电能加速并扩大下单要价近3.8亿美元的High NA EUV光刻机。

《科创板日报》19日讯，Rapidus已开始在位于北海道的在建芯片制造工厂安装日本首台ASML极紫外(EUV)光刻设备。 公司正与IBM合作，计划于2025年春季采用最先进的2nm工艺开发原型芯片，并于2027年实现量产。

财联社12月3日电，国林科技20CM涨停，新莱应材涨超5%，珂玛科技、东方嘉盛、蓝英装备、张江高科、晶方科技、波长光电等跟涨。

《科创板日报》15日讯，日本先进半导体代工企业Rapidus购入的第一台ASML EUV光刻机将于2024年12月中旬抵达北海道新千岁机场，这也将成为日本全国首台EUV光刻设备。根据Rapidus高管以往表态，该光刻机是较早期的0.33 NA型号，而非目前全球总量不足10台的0.55 NA（High NA）款。

《科创板日报》15日讯，SK海力士技术长Seon-yong Cha表示，正考虑引进ASML造价4亿美元的High NA EUV光刻设备，生产下一代存储芯片。