记者今天（3日）了解到，为推动完善集成电路布图设计保护制度，根据《集成电路布图设计保护条例》以及其他有关法律、行政法规的规定，国家知识产权局研究起草了《集成电路布图设计保护条例实施细则修改草案（征求意见稿）》，现予以公布并征求社会各界意见，征求意见截止日期为2026年9月3日。
征求意见稿主要包括以下三个方面修改内容：
（一）优化登记申请及相关程序，规范业务办理流程手续。
一是完善登记申请手续。明确电子形式视为书面形式以及申请布图设计登记应提交样品的形式、时机和数量，补充完善电子形式递交和送达文件的有关规定和申请表的有关事项，增加委托代理手续以及共同申请确定代表人的规定。
二是细化申请文件的要求。规定复制件或图样应按规定的形式和格式提交，独创性声明应明确布图设计中具有独创性的部分并作出说明，具有独创性的部分应当包括可以实现独立功能的模块区域。
三是优化登记审查程序。完善不予受理的情形，细化修改申请文件的规定，增加主动撤回申请的规定。
四是规范著录项目变更程序。对创作者的姓名或名称等一般不得变更的著录项目作出规定。
五是明确行使布图设计专有权的手续。新增“行使专有权的手续”专章，对办理布图设计专有权转让登记、许可使用合同备案、质押登记、转移等业务的有关要求作出规定。
六是完善申请布图设计登记和办理其他手续时有关缴费的规定。完善费用的种类、明确网上缴费的时间和退费的有关规定。
七是完善布图设计登记簿的内容，明确公众可查阅和复制的登记簿内容。
（二）完善复审和撤销制度，提高登记确权质量效率。
一是落实党和国家机构改革精神，将复审和撤销机构由原国家知识产权局专利复审委员会统一修改为“国家知识产权局”。
二是优化复审制度，完善不予受理复审请求的情形，明确撤销原驳回决定后的审查程序。
三是完善撤销制度，细化依请求撤销的提出、受理、撤回等相关规定，增加口头审理和指定期限不得延长的规定。
（三）加强布图设计专有权保护，促进布图设计实施利用。
一是完善纠纷解决方式。明确国家知识产权局可应请求处理有关侵权纠纷，对侵权赔偿数额进行调解，请求人可以是有利害关系的自然人、法人或者非法人组织。
二是完善侵权纠纷案件的审查范围。明确国家知识产权局应当根据请求人主张的具有独创性的部分，确定布图设计专有权侵权纠纷的审理范围。
三是完善行政裁决程序中止的规定，明确国家知识产权局认为当事人提出的中止理由明显不能成立的，可以不中止有关程序。
四是细化非自愿许可制度。对非自愿许可请求的提出、受理、审查、决定等作出规定。
常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。现今，大部分的电子产品，如计算机、移动电话或是数字录音机当中的核心单元都和半导体有着极为密切的关连。
