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大基金、中微公司坐镇 半导体设备商拓荆科技冲击科创板 已有产品打入国际先进制程产线
科创板日报记者 吴凡
2021-07-13 星期二
原创
公司产品已可应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线,并已展开10nm及以下制程产品验证测试。
半导体芯片
常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。现今,大部分的电子产品,如计算机、移动电话或是数字录音机当中的核心单元都和半导体有着极为密切的关连。
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《科创板日报》(上海,记者 吴凡),半导体行业高景气度下,又一家国内半导体设备商叩响了科创板大门。

7月12日,上交所受理了拓荆科技股份有限公司(下称“拓荆科技”)的科创板IPO申请,拓荆科技所聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大核心设备。

招股书显示,拓荆科技主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系。制程应用方面,公司产品已可应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线,并已展开10nm及以下制程产品验证测试。

客户导入方面,拓荆科技的产品已广泛用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂产线,另外公司还透露,2020年某国际领先晶圆厂向公司增订了一台PECVD设备用于其先进逻辑芯片制造试产线。

半导体设备制造行业的特性之一是初期投入要求非常高,而拓荆科技发展中陆续获得了国家大基金(下称“大基金”)、中微公司、国投上海、苏州聚源等众多知名资本、企业的资金加持。目前大基金为公司第一大股东,持股26.4833%,公司无实际控制人。

此次科创板IPO,公司拟募资10亿元,其中约4亿元投向“先进半导体设备的技术研发与改进项目”。总体来看,随着全球半导体厂商持续扩产,半导体设备有望持续受益。

出货量超150套机台

晶圆制造设备的市场规模占集成电路设备整体市场规模的80%以上,而薄膜沉积又是芯片制造的核心工艺环节。

根据不同的应用,薄膜沉积演化出了PECVD、溅射PVD、ALD、LPCVD等不同的设备用于晶圆制造的不同工艺,其中PECVD占整体薄膜沉积设备市场的33%。

拓荆科技则是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD设备厂商。招股书显示,拓荆科技的PECVD设备已配适180-14nm逻辑芯片、19/17nmDRAM及64/128层FLASH制造工艺需求。

分产品型号看,目前拓荆科技有1款12英寸PECVD设备和1款8英寸PECVD已达到产业化应用,3款设备处于产业化验证阶段,另有1款“12英寸PECVD设备PF-300TpX”处于在研阶段,该款设备主要应用于10nm以下逻辑芯片制造。

与之相比,拓荆科技的另一产品ALD在DRAM和3DNAND制造中必不可少的核心设备之一。

招股书显示,拓荆科技共有3款ALD设备,其中12英寸PEALD设备FT-300T已处于产业化应用阶段,该款设备主要应用于逻辑芯片28-14nm纳米SADP、STILiner工艺,55-40nmBSI工艺的晶圆制造、2.5D、3DTSV先进封装领域;其余2款设备均处于研发中,其中FT-300T(Thermal)系列设备主要应用于逻辑芯片28nm以下制程、FT-300H系列设备主要应用于128层以上3DNANDFLASH存储芯片、19/17nmDRAM存储芯片晶圆制造。

而在SACVD设备领域,拓荆科技也是国内唯一一家产业化应用的集成电路SACVD设备厂商,目前公司的8英寸SACVD设备SA-200T为产业化应用阶段,主要应用于90nm以上制程STI、ILD工艺的晶圆制造,而12英寸SACVD设备SA-300T则处于产业化验证阶段,主要应用于40-28nm制程STI、ILD工艺的晶圆制造。

总体来看,拓荆科技已累计发货超150套机台,一定程度上降低了国内集成电路生产线对国际设备厂商的依赖。此外在先进制程方面,公司PECVD设备已发货某国际领先晶圆厂先进制程研发产线,ALD设备已销往国内14nm研发产线。

收入结构单一

报告期内(2018年、2019年、2020年以及2021年1至3月,),拓荆科技各期前五大客户收入占各期比重分别为:100.00%、84.02%、83.78%和100%。公司累计销售额超1亿元的主要客户有中芯国际、华虹集团、长江存储等,其中公司来自中芯国际的收入占各期的比重分别为:14.80%、27.09%、45.73%以及17.94%。

除上述代工厂外,重庆万国半导体(集12英寸芯片制造及封装测试集成为一体的功率半导体企业)、北京燕东(模拟集成电路及分立器件制造商)、广州粤芯(广东省目前唯一进入量产的12英寸芯片生产平台)、合肥晶合集成电路有限公司(安徽省首家12英寸晶圆代工企业)等厂商也曾出现在拓荆科技前五大客户中。

虽然产品导入到了下游众多的晶圆制造厂商,但报告期内拓荆科技的收入来源较为单一,其主要收入来自于PECVD设备的销售收入。报告期内,PECVD设备贡献的收入分别为:5170.28万元、2.48亿元、4.18亿元和5294.30万元,占各期总营收的比重为:77.98%、100%、97.55%和100%。

《科创板日报》记者梳理发现,造成公司产品结构单一主要有以下几个原因,其一是公司PECVD设备推出较早,产品线较为丰富,下游市场应用广阔,国内市场成熟;其二则于产品验证周期较长有关。

招股书显示,对于新客户的首台订单或新工艺订单设备,整个流程可能需要6-24个月甚至更长时间;而对于重复订单设备,从出货到设备验收通常也需要3-24个月的时间。因此若公司产品验收周期延长,其收入确认将有所延迟。

产品验证周期长,叠加报告期内较大的研发投入(研发费用占各期营业收入的比例为152.84%、29.58%、28.19%和47.02%),由此造成公司报告期内持续亏损。报告期内,拓荆科技净利润分别为-1.03亿元、-1936.64万元、-1169.99万元及-1058.92万元,不过公司亏损正在逐年收窄。

国产化率有较大提升空间

随着招股书的披露,拓荆科技产品的销售价格和生产数量也公之于众。

2018年至2020年,拓荆科技生产的PECVD设备的数量分别为:9台、22台和50台,销售的数量则分别为:4台、19台和31台,PECVD平均销售单价持续小幅增长,为1292.57万元/台、1303.81万元/台和1349.18万元/台。

产品量价齐声的背后,一方面反映的是半导体行业景气度的持续提升,下游晶圆厂的需求增加,对半导体专用设备的需求也随之上升;另一方面,随着我国半导体产业发展阶段逐步走向成熟,国内晶圆制造厂商在采购半导体专用设备时,开始注重供应链安全和成本控制。因此国产半导体设备成为国内各大半导体制造商的重要战略选择。

《科创板日报》记者统计了拓荆科技招股书中披露的的国内同行业公司:中微公司、芯源微、华海清科、盛美股份等2020年业绩。受益于半导体行业景气度的提升,5家公司2020年的营收均呈现同比增长,其中营收最高的为中微公司22.73亿元,营收同比增幅最大的为华海清科,同比增长82.95%。

归母净利润方面,除拓荆科技小幅亏损外,其余可比公司的归母净利润均为正,中微公司和盛美股份的归母净利润分别为:4.9亿元和1.97亿元;另外5家公司2020年归母净利润呈现不同幅度同比增长,其中华海清科和中微公司的增幅超过100%。

而在当前半导体行业缺芯潮之下,各大半导体代工厂商正在持续的扩充产能。SEMI(国际半导体产业协会)在最新发布的报告中预测,全球半导体厂商将在今年年底前开始建设19座新的高产能晶圆厂,并在2022年再开工建设10座。

根据民生证券的测算,仅国内两大晶圆代工厂中芯国际和华虹2021年就需要用到刻蚀机/光刻/CVD+PVD设备190台/61/380台。

拓荆科技称,国内半导体设备企业在下游客户新建产线中,有机会获得新的业务机会,设备产品有机会获得验证和试用,为国内半导体设备企业开发新产品、扩大市场占有率构建起有力竞争环境。

大基金为大股东

天眼查显示,拓荆科技前身由中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司、孙丽杰于2010年分别出资设立,自成立后共历经多轮融资。

2015年,拓荆科技完成A轮融资,投资方由大基金领衔,其余投资方还包括中芯聚源和华芯投资;2017年8月,拓荆科技又完成了B轮融资,投资方为国投上海和中车资本。

2019年5月,大连港航向中微公司转让其所持拓荆有限3.9646%股权,转让价格为19元/元注册资本。截至招股书签署日,大基金为拓荆科技第一大股东,持股比例为26.4833%;国投上海和中微公司分别位列第二和第三大股东,持股比例为18.2347%和11.1982%;另外苏州聚源和中车资本旗下中车国华的持股比例分别为:1.8977%和1.7095%。

值得注意,中微公司不仅是拓荆科技的同行业可比公司,其同时也是拓荆科技的潜在竞争对手。招股书显示,在ALD设备领域,除拓荆科技外,北方华创、盛美股份、屹唐股份及中微公司已推出自产设备或有进入ALD设备市场的计划。

此外,截至本招股说明书签署日,拓荆科技单个股东持有或控制的股份数量均未超过公司总股本的30%,无法形成控股,单个股东亦不能决定董事会多数席位,使得公司无控股股东及实际控制人。

特别声明:文章内容仅供参考,不构成投资建议。投资者据此操作风险自担。
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