财联社
财经通讯社
打开APP
08:35:53【中微公司发布双反应台电感耦合等离子体刻蚀设备】
《科创板日报》16日讯,中微公司在SEMICON China 2021期间正式发布了新一代电感耦合等离子体刻蚀设备Primo Twin-Star®,用于IC器件前道和后道制程导电/电介质膜的刻蚀应用该设备为电介质前道/后道制程、多晶硅刻蚀、DTI和BSI刻蚀等提供了高性价比的刻蚀解决方案。与其他同类设备相比,Primo Twin-Star® 以更小的占地面积、更低的生产成本和更高的输出效率,进行ICP适用的逻辑和存储芯片的介质和导体的各种刻蚀应用,并用于功率器件和CMOS图像传感器的刻蚀应用。
中微公司+0.19%
财联社声明:文章内容仅供参考,不构成投资建议。投资者据此操作,风险自担。
半导体芯片 传感器 科创板最新动态 中微公司 存储芯片
2021-03-16 08:35:53 3989084 阅读
商务合作
专栏
相关阅读
评论
热度
最新