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14:17:59【阿斯麦推进新一代光刻机升级 瞄准大型数据中心芯片市场】
财联社9月8日电,阿斯麦表示,计划与主要客户合作,开发能够生产最先进芯片制造设备的新方案,以满足英伟达等公司设计的大型数据中心芯片需求。目前ASML生产的被广泛应用的极紫外(EUV)光刻机可制造面积最大约800平方毫米的芯片,ASML即将推出的下一代“高数值孔径”EUV光刻机,能够制造出更为精细的芯片。不过,由于其采用尺寸较小的掩模版,目前在可制造芯片面积方面受到限制。ASML计划到2031年展示采用更大尺寸掩模版的试验生产线,并在2033年使这项新技术具备大规模量产能力。
半导体芯片 光刻机 人工智能
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2026-09-08 14:17:59 1695998 阅读
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