《科创板日报》7月15日讯（编辑 宋子乔） 今日，光刻机龙头阿斯麦（ASML）披露2026年二季度业绩，核心指标均超预期。

二季度，阿斯麦实现净销售额93.3亿欧元（上季度为88亿欧元），彭博分析师一致预期为88.5亿欧元；营业利润34.6亿欧元，市场预期30.7亿欧元；净利润29.2亿欧元，市场预期26.4亿欧元；毛利率录得54%，同样优于预期的52%。

阿斯麦表示，业绩超预期的核心驱动力来自存量设备业务（The Installed Base business），该业务在三季度实现28亿欧元营收，较预期高出3亿欧元，主要原因是客户迫切寻求提升生产效率，设备升级业务需求十分旺盛。

阿斯麦同时给出了乐观的三季度展望和全年业绩指引——

预计三季度净销售额为110亿至120亿欧元（其中存量设备业务营收约29亿欧元），市场预期为102.7亿欧元；预计毛利率55%–57%，市场预期52.5%。

对于2026年全年，阿斯麦预计销售额将在430亿-450亿欧元，此前预期为360亿-400亿欧元；预计毛利率54%–56%，此前预期51%–53%，市场预期52.5%。

需求旺盛推动阿斯麦积极扩产 长单签至2028年

阿斯麦首席执行官克里斯托夫•富凯（Christophe Fouquet）在财报声明中表示， 旺盛的终端市场需求促使客户加大资本开支，从今年开始，市场的设备需求大幅增加。基于此，阿斯麦也在同步扩充产能、扩招团队，以便持续为客户提供支撑。

具体来看，当前存储芯片明显存在供给缺口，所有客户都在推进相关扩产动作，EUV与高端浸没式DUV光刻机的需求同步上涨。基于此，阿斯麦预计2026年存储业务的营收将增长75%。

阿斯麦表示，逻辑芯片与DRAM领域的客户都与其下游客户签订了长期合作协议，这推动阿斯麦的客户愿意下达长期订单，它们的设备采购计划不仅覆盖明年，还延伸至更远。

目前，其2027年所需的EUV设备订单基本全部敲定，且已收获大批2028年EUV设备远期订单。随着EUV设备需求回暖，DUV设备需求也将同步增长。

阿斯麦预计，2026年，低数值孔径（Low-NA）EUV光刻机将出货65台；浸没式DUV光刻机出货130台，产能与去年持平。

对于上述两类光刻机，阿斯麦计划，在2027年和2028年连续两年将其产能提升30%。

对于未来设备需求，阿斯麦提到两大行业趋势：一是随着芯片制程节点变得更先进、工艺复杂度持续提升，客户对先进光刻设备的需求持续增长；二是在光学量测设备与电子束检测设备领域，客户对相关设备的采用规模大幅攀升。

对于中国大陆市场，阿斯麦方面表示，在年度营收基数提升的情况下，预计2026年中国大陆市场仍将占公司总净销售额的约20%，该占比维持不变，新增需求主要集中在逻辑芯片业务板块。

阿斯麦还透露，英特尔晶圆代工正在使用其EXE High NA EUV光刻设备（EXE高数值孔径极紫外线光刻机），在英特尔18A工艺节点上生产部分酷睿Ultra 3（猎豹湖）处理器。

阿斯麦表示，这是一个意义重大的里程碑，印证了这款设备在技术上已经成熟。

EXE High NA EUV设备是阿斯麦目前最先进的设备，据路透社此前报道，单台价格约4亿美元，约为标准EUV设备的两倍，且技术导入难度较高。台积电曾表示，该设备不适合大规模生产，未来某个时候才会转向采用该技术。