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06:57:20【“内爆雕刻”技术可在三维材料内精确刻写结构】
财联社5月15日电,美国麻省理工学院(MIT)研究团队开发出一种名为“内爆雕刻”的新型纳米制造技术,可在三维材料内部精确刻写结构。该技术加工精度优于100纳米,并成功制造出可用于可见光计算的微型三维光子器件,为可见光计算和高速光学处理提供了新的制造方案。相关成果发表于最新一期《自然·光子学》杂志。
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2026-05-15 06:57:20 1347951 阅读
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