财联社
财经通讯社
打开APP
08:24:18【盛美上海首台PECVD SiCN设备顺利出机】
财联社4月27日电,盛美上海宣布,其首台等离子体增强化学气相沉积(PECVD)碳氮化硅(SiCN)设备已正式出机。该设备旨在支持55纳米及以下高端IC工艺的后段金属互联工艺应用中的PECVD NDC (SiCN)工艺,应用场景包括铜氧化抑制、铜扩散阻挡层及刻蚀停止层。
盛美上海+4.08%
有色金属 有色·铜
财联社声明:文章内容仅供参考,不构成投资建议。投资者据此操作,风险自担。
2026-04-27 08:24:18 1232470 阅读
商务合作
热门解锁
相关阅读
评论
热度
最新
发送
复制
取消
垃圾广告
政治激进内容
色情低俗内容
取消