打开APP
×
07:47
阿斯麦新一代EUV光刻机据悉已具备量产条件
财联社2月27日电,据报道,荷兰光刻设备制造商阿斯麦高管表示,公司新一代极紫外光刻机已准备就绪,芯片制造商可开始将其用于大规模生产。该设备单价约4亿美元,为初代EUV机型的两倍。阿斯麦首席技术官马尔科·皮特斯称,该设备已累计加工约50万片硅晶圆,停机时间极低,图案精度达到量产标准。
半导体芯片
光刻机
阅读 52828
特别声明:文章内容仅供参考,不构成投资建议。投资者据此操作风险自担。
相关新闻
“AI界春晚”重磅来袭!一文读懂:英伟达GTC今年有哪些看点?
8小时前
半导体或掀又一轮涨价潮:原材料压力传导 成熟制程产能最快下月调价
11小时前
记者AWE2026现场观察:消费级机器人、AI芯片原生、环境智能体崛起
03月15日 12:35
相关企业家
联系Ta
联系企业家
为保护双方个人信息请联系您的专属助理进行接洽
我再想想
点击复制
复制成功,请去微信添加