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10:01:39【光刻机、光刻胶概念异动拉升 国风新材4天2板】
财联社2月13日电,光刻机、光刻胶概念盘中异动拉升,国风新材直线涨停,走出4天2板,永新光学、洪田股份、华懋科技、京华激光、华融化学等快速跟涨。消息面上,招商证券指出,AI服务器需求爆发正驱动DRAM与逻辑芯片资本开支高增,预计2026年全球晶圆前道制造设备(WFE)市场规模将突破1300亿美元并创历史新高,增长率有望达20%以上。
华融化学+3.42%
京华激光+2.78%
洪田股份+3.59%
国风新材+10.02%
华懋科技+5.34%
永新光学+7.50%
盘面直播 光刻机
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2026-02-13 10:01:39 732851 阅读
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