我国在光刻胶领域取得新突破!在半导体升级、国产化及新兴技术三重因素驱动下,2030年我国在全球光刻胶市场规模占比将提升至30%,这家公司已建成100吨光刻胶产品年产能,另一家相关产品能够满足光刻胶的生产工艺要求。
我国在光刻胶领域取得新突破!在半导体升级、国产化及新兴技术三重因素驱动下,2030年我国在全球光刻胶市场规模占比将提升至30%,这家公司已建成100吨光刻胶产品年产能,另一家相关产品能够满足光刻胶的生产工艺要求。
MCU+光模块,已发布用于800G高速光模块MCU产品,光模块AFE产品实现量产,AI服务器电源芯片技术攻关顺利,推出第五代精简指令集双核MCU芯片,这家公司IGBT、MOSFET产品竞争力不断增强。