打开APP
×
09:00
三星电子计划投资1.1万亿韩元引进最新的High-NA EUV光刻机
《科创板日报》16日讯,三星电子计划投入约1.1万亿韩元引进两台最新的High-NA双级极紫外(EUV)光刻机。据业内人士透露,三星电子此前仅在京畿道园区引进过一台用于研发的High-NA EUV设备,此次引进的机器将用于“产品量产”。三星电子计划在年内引进一台,并在明年上半年再引进一台。 (韩国经济日报)
光刻机
阅读 51722
特别声明:文章内容仅供参考,不构成投资建议。投资者据此操作风险自担。
相关新闻
ASML全球执行副总裁、中国区总裁沈波:AI算力增长需求远超摩尔定律 能耗成关键瓶颈
11月07日 21:11
2025湾芯展今日开幕:芯上微装携封装光刻机首秀 拓荆、沪硅等龙头晒出硬核技术
10月15日 17:54
“英伟达入股英特尔”背后赢家浮现?美银大幅上调阿斯麦目标价
09月19日 11:48
相关企业家
联系Ta
联系企业家
为保护双方个人信息请联系您的专属助理进行接洽
我再想想
点击复制
复制成功,请去微信添加