往期回顾:9月24日07:46《电报解读》追踪到“盛美上海”互动易线索,随即展开梳理:公司聚焦半导体设备创新,清洗设备全球市占率8%(中国单片清洗30%),电镀设备全球第三(8.2%市占率)。UltraCwb湿法清洗升级突破500层+3D器件副产物积聚难题;首款KrF涂胶显影设备已交付头部逻辑厂。单晶圆高温SPM通过关键验证,技术覆盖前道/后道及3D/化合物半导体,兼具技术壁垒与市场拓展能力。盛美上海持续拉升,4日最高涨23.96%。
①光刻胶+存储芯片,自主研发的光刻胶功获得国产化订单,这家公司产品可用于存储芯片多个工艺环节,将深度绑定国内存储芯片厂商供应链。 ②储能+光模块,签订海外储能电站大单,具备细分高速铜缆量产条件,空芯光纤及112G铜缆量产,这家公司全系列400G光模块均已规模量产交付。
往期回顾:9月24日07:46《电报解读》追踪到“盛美上海”互动易线索,随即展开梳理:公司聚焦半导体设备创新,清洗设备全球市占率8%(中国单片清洗30%),电镀设备全球第三(8.2%市占率)。UltraCwb湿法清洗升级突破500层+3D器件副产物积聚难题;首款KrF涂胶显影设备已交付头部逻辑厂。单晶圆高温SPM通过关键验证,技术覆盖前道/后道及3D/化合物半导体,兼具技术壁垒与市场拓展能力。盛美上海持续拉升,4日最高涨23.96%。