打开APP
×
09:26
尼康推出无掩模后道光刻机
《科创板日报》23日讯,尼康近日宣布,正式推出全球首款专为半导体后道工艺设计的无掩模光刻系统DSP-100,并启动全球预订,预计于2026年3月31日前正式上市。该设备采用SLM(空间光调制器)技术,专为扇出型面板级封装(FOPLP)领域设计,能够支持最大600mm见方的大型基板,并具备1.0μm *1(L/S *2)高分辨率。
半导体芯片
光刻机
阅读 50655
特别声明:文章内容仅供参考,不构成投资建议。投资者据此操作风险自担。
相关新闻
英伟达Q2业绩会实录:GB300量产+Rubin全速推进,中国市场今年机遇规模达500亿美元
2小时前
英伟达Q2数据中心营收未达预期 盘后一度大跌超5%
5小时前
科创芯片迎强劲财报季:Q2营收环比集体爆发 产业旺季来临这些方向有望受益
18小时前
相关企业家
联系Ta
联系企业家
为保护双方个人信息请联系您的专属助理进行接洽
我再想想
点击复制
复制成功,请去微信添加