打开APP
×
09:26
尼康推出无掩模后道光刻机
《科创板日报》23日讯,尼康近日宣布,正式推出全球首款专为半导体后道工艺设计的无掩模光刻系统DSP-100,并启动全球预订,预计于2026年3月31日前正式上市。该设备采用SLM(空间光调制器)技术,专为扇出型面板级封装(FOPLP)领域设计,能够支持最大600mm见方的大型基板,并具备1.0μm *1(L/S *2)高分辨率。
半导体芯片
光刻机
阅读 50660
特别声明:文章内容仅供参考,不构成投资建议。投资者据此操作风险自担。
相关新闻
上海:加快培育硅光、6G、第四代半导体、类脑智能等产业
10月11日 10:26
刷新纪录!南大团队研发出最高计算精度模拟存算一体芯片
10月11日 10:43
韩国股市节后首日“开门红” 两大芯片巨头股价齐创新高
10月10日 13:21
相关企业家
联系Ta
联系企业家
为保护双方个人信息请联系您的专属助理进行接洽
我再想想
点击复制
复制成功,请去微信添加