打开APP
×
09:26
尼康推出无掩模后道光刻机
《科创板日报》23日讯,尼康近日宣布,正式推出全球首款专为半导体后道工艺设计的无掩模光刻系统DSP-100,并启动全球预订,预计于2026年3月31日前正式上市。该设备采用SLM(空间光调制器)技术,专为扇出型面板级封装(FOPLP)领域设计,能够支持最大600mm见方的大型基板,并具备1.0μm *1(L/S *2)高分辨率。
半导体芯片
光刻机
阅读 50646
特别声明:文章内容仅供参考,不构成投资建议。投资者据此操作风险自担。
相关新闻
中芯国际:产能供不应求 汽车电子出货持续增长 急单及拉货情况至Q4预计减缓|直击业绩会
1小时前
特斯拉Dojo“豪赌”或落幕 据称马斯克已叫停芯片自研项目
5小时前
国产晶圆代工双雄Q2财报出炉:归母净利中芯降、华虹升 产能利用率均持续改善
17小时前
相关企业家
联系Ta
联系企业家
为保护双方个人信息请联系您的专属助理进行接洽
我再想想
点击复制
复制成功,请去微信添加