广州开发区、黄埔区：支持光刻、清洗、刻蚀、离子注入、沉积等设备、关键零部件及工具国产化替代

财联社6月17日电，《广州开发区黄埔区支持集成电路产业高质量发展若干政策措施》近日发布。其中提出，鼓励发展光掩模、电子气体、光刻胶、抛光材料、高纯靶材等高端半导体和传感器制造材料。积极引进国内重点基础材料企业，稳步提升关键基础材料供应能力。重点围绕集成电路制造关键部件和系统集成开展持续研发和技术攻关，支持光刻、清洗、刻蚀、离子注入、沉积等设备、关键零部件及工具国产化替代。对于新引进的固定资产投资1000万元以上的产业化项目，且政策有效期内实现小升规的企业，按照不超过其设备和工器具投资额的15%分档给予扶持，最高1000万元。

①兆芯集成是一家x86架构CPU设计企业，已完成五代内核微架构的演进升级，报告期年均复合增长率为61.71%；
                                    ②兆芯集成控股股东为上海联和投资，这是今年以来科创板受理的第8家IPO企业，也是今年科创板受理的第3家未盈利企业。

①广州开发区黄埔区印发《支持集成电路产业高质量发展若干政策措施》，旨在打造中国集成电路产业第三极核心承载区；
                                    ②政策措施包括优化产业发展布局、提升高端芯片设计能力、支持核心设计工具国产化替代、加快制造能级提升等九条内容。