打开APP
×
13:06 消息称三星1c DRAM良率提升至70%
《科创板日报》4日讯,消息称三星采取的设计变更战略奏效,5月其10nm级第六代DRAM(1c DRAM)的晶圆效能测试中,达成有意义的良率,即冷态环境下测试良率约50%,热态条件下测试良率达60~70%。
半导体芯片
阅读 60832
特别声明:文章内容仅供参考,不构成投资建议。投资者据此操作风险自担。
相关新闻
相关企业家
联系Ta
联系企业家
为保护双方个人信息请联系您的专属助理进行接洽
我再想想
点击复制
复制成功,请去微信添加