打开APP
×
13:37
《科创板日报》12日讯,报道称三星电子本月初在其华城园区引入了ASML生产的High NA极紫外光刻(EUV)设备,希望提升2纳米及以下制程的竞争力。 (FNnews)
光刻机
阅读 47425
特别声明:文章内容仅供参考,不构成投资建议。投资者据此操作风险自担。
相关新闻
“卯上”高端制程光刻材料!恒坤新材瞄准SOC、BARC及高端光刻胶自主化供应|新质生产力专题调研
03月27日 12:24
事关光刻机!这一新型部件或重塑现有系统 光源效率有望提升10倍
01月07日 15:19
中芯国际:产能供不应求 汽车电子出货持续增长 急单及拉货情况至Q4预计减缓|直击业绩会
1小时前
相关企业家
联系Ta
联系企业家
为保护双方个人信息请联系您的专属助理进行接洽
我再想想
点击复制
复制成功,请去微信添加