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08:51 Rapidus开始安装日本首台ASML EUV光刻机 计划2027年量产2nm芯片
《科创板日报》19日讯，Rapidus已开始在位于北海道的在建芯片制造工厂安装日本首台ASML极紫外(EUV)光刻设备。 公司正与IBM合作，计划于2025年春季采用最先进的2nm工艺开发原型芯片，并于2027年实现量产。 (NIKKEI)
半导体芯片 光刻机
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