打开APP
×
14:00 三星大幅减少未来生产NAND所需光刻胶使用量
《科创板日报》26日讯,三星已成功大幅减少3D NAND闪存生产光刻工艺中光刻胶的使用量。据消息人士透露,其已制定未来NAND的生产路线图,仅使用目前光刻胶量的一半。 (theelec)
光刻胶 半导体芯片 存储芯片
阅读 51264
特别声明:文章内容仅供参考,不构成投资建议。投资者据此操作风险自担。
相关新闻
相关企业家
联系Ta
联系企业家
为保护双方个人信息请联系您的专属助理进行接洽
我再想想
点击复制
复制成功,请去微信添加