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产业化进程加速!久日新材年产4500吨光刻胶项目投产
科创板日报记者 吴旭光
2024-11-19 星期二
原创
①久日新材表示,公司年生产面板光刻胶4000吨和半导体光刻胶500吨,将推动光刻胶产品产业化进程,增加新的利润增长点;
②业内人士表示,大晶新材光刻胶生产线主要生产i-线和g-线半导体光刻胶波长为365nm、436nm,主要用于250nm以上的工艺,属于中低端光刻胶。
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《科创板日报》11月19日讯(记者 吴旭光)今日(11月19日)晚间,久日新材发布公告,该公司在控股孙公司徐州大晶新材料科技集团有限公司投资建设的“徐州大晶新材料科技集团有限公司(下称“大晶新材”)年产4500吨光刻胶项目”现已完成建设,试生产方案业经专家组评审通过,于11月19日起正式进入试生产阶段。

该公司表示,上述项目为年生产面板光刻胶4000吨和半导体光刻胶500吨,将推动其光刻胶产品产业化进程,实现光刻胶产品的规模化生产,增加新的利润增长点。

体现在半导体光刻胶应用领域方面,《科创板日报》记者注意到,今年11月19日,久日新材披露投资者关系活动记录表显示,其子孙公司大晶新材4500吨/年光刻胶生产线主要生产i-线和g-线半导体光刻胶、TFT正性面板光刻胶等产品,预计今年12月底前投产。项目投产后,产能将逐步释放,具体达产时间将受到生产情况、市场需求、客户订单等因素的影响。

此外,久日新材表示,该公司已研发多款半导体i-线光刻胶、发光二极管g-线/h-线光刻胶和面板光刻胶,并已进入下游客户送样测试阶段,其中部分产品已通过测试正式供货。

对此,有半导体新材料行业人士对《科创板日报》记者表示,一方面,大晶新材光刻胶生产线主要生产i-线和g-线半导体光刻胶波长为365nm、436nm,主要用于250nm以上的工艺,属于中低端光刻胶;另一方面,该项目为年生产半导体光刻胶500吨,属于小规模试生产阶段。

“目前国内中低端光刻胶领域,已有很多公司实现量产,且规模很大,如:南大光电、北京科华等。”该半导体新材料行业人士进一步表示。

对此,《科创板日报》记者多次致电久日新材证券部,但截至发稿尚未得到相关回复。

从中低端市场光刻胶市场渗透率看,“目前国内市场需求很大,国内成熟制程应用广泛,随着技术的不断进步和国产化进程的加速,市场需求将持续增长。”上述半导体新材料行业人士表示。

久日新材主要从事光引发剂的研发、生产和销售,产品应用于电器/电子涂装、印刷线路板制造、3D打印、半导体、光刻胶等行业。

财报显示,今年前三季度,该公司营业收入为11.24亿元,同比增长26.00%;归母净利润亏损2412.96万元,上年同期亏损5715.74万元;扣非净利润亏损3214.73万元,上年同期亏损7422.71万元。

特别声明:文章内容仅供参考,不构成投资建议。投资者据此操作风险自担。
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