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日本首台ASML EUV光刻机下月中旬运抵 用于Rapidus晶圆厂试产
《科创板日报》15日讯,日本先进半导体代工企业Rapidus购入的第一台ASML EUV光刻机将于2024年12月中旬抵达北海道新千岁机场,这也将成为日本全国首台EUV光刻设备。根据Rapidus高管以往表态,该光刻机是较早期的0.33 NA型号,而非目前全球总量不足10台的0.55 NA(High NA)款。 (日本经济新闻)
光刻机
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