打开APP
×
17:35
机构:预计ASML High NA EUV光刻机功耗约1400千瓦
《科创板日报》4日讯,TechInsights表示,每台ASML 0.33 NA EUV光刻机的功耗就已经达到了1170kW,而0.55NA (High NA) 光刻机的功耗预计将进一步增长至1400kW。
光刻机
阅读 55099
特别声明:文章内容仅供参考,不构成投资建议。投资者据此操作风险自担。
相关新闻
如果历史重演,比特币可能在一个月内再创新高!
刚刚
突发!倍轻松收监管函 涉及公司、董监高及中介机构
刚刚
10亿收购上海芯嵛82%股权 华海清科加大离子注入机业务
1小时前
相关企业家
联系Ta
联系企业家
为保护双方个人信息请联系您的专属助理进行接洽
我再想想
点击复制
复制成功,请去微信添加