财联社
财经通讯社
打开APP
14:26:20【消息称三星将于2025年初从ASML引进High-NA EUV光刻机】
《科创板日报》30日讯,据报道援引消息人士称,三星电子将从ASML引进首台High-NA EUV光刻机EXE:5000,预计2025年初到货。半导体设备安装通常需要较长测试时间,该光刻机预计最快2025年中旬开始运行。High-NA EUV为2纳米以下先进制程所需设备,韩国业界预期,三星也将正式启动1纳米芯片的商用化进程。 (ET News)
半导体芯片 半导体设备 光刻机
财联社声明:文章内容仅供参考,不构成投资建议。投资者据此操作,风险自担。
2024-10-30 14:26:20 2752965 阅读
商务合作
专栏
相关阅读
评论
热度
最新
发送