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东方晶源PanGen DMC完成验证
《科创板日报》14日讯,东方晶源宣布PanGen DMC完成验证。在国内某先进节点FAB内实测结果表明,东方晶源PanGen DMC在全芯片尺度上预测结果与实际的差距在超过99%的版图位置上小于1nm;针对Design上的严重缺陷,DMC能在其送入OPC之前提前预判,Capture Ratio超过90%。
半导体芯片
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