《科创板日报》19日讯，SK海力士EUV材料技术人员表示，该企业计划于2026年首次导入ASML的High NA EUV光刻机。SK海力士新近成立了一个High NA EUV研发团队，正致力于将High NA EUV光刻技术应用到最先进DRAM内存的生产上。 (ZDNet Korea)