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三星或最快于年底引进High-NA EUV设备
《科创板日报》16日讯,三星计划在今年年底或2025年第一季度引入其首台High-NA EUV光刻机“EXE:5000”,预计该设备将用于晶圆代工业务。目前,ASML仅制造了8台EXE:5000设备,其中多台已经被英特尔公司预定。 (首尔经济日报)
光刻机
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