极紫外光刻新技术问世,功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一,光源是光刻机核心系统之一,这家公司成功开发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套,另一家已参与高能同步辐射光源项目。
极紫外光刻新技术问世,功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一,光源是光刻机核心系统之一,这家公司成功开发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套,另一家已参与高能同步辐射光源项目。
MCU+光模块,已发布用于800G高速光模块MCU产品,光模块AFE产品实现量产,AI服务器电源芯片技术攻关顺利,推出第五代精简指令集双核MCU芯片,这家公司IGBT、MOSFET产品竞争力不断增强。