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【电报解读】极紫外光刻新技术问世,功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一,这家公司成功开发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套
【极紫外光刻新技术问世 能大幅提高能源效率并降低半导体制造成本】财联社8月2日电,据日本冲绳科学技术大学院大学(OIST)官网最新报告,该校设计了一种极紫外(EUV)光刻技术,超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻设备可采用更小的EUV光源,其功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一,从而降低成本并大幅提高机器的可靠性和使用寿命。
极紫外光刻新技术问世,功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一,光源是光刻机核心系统之一,这家公司成功开发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套,另一家已参与高能同步辐射光源项目。
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