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21:19:23【清溢光电：使用DUV光刻机生产高规产品会增加掩膜版使用量】
财联社4月30日电，清溢光电在互动平台表示，使用DUV光刻机生产高规产品会增加掩膜版使用量，但不会机械式增加太多，具体增加数量依据客户自身工艺而定。
财联社声明：文章内容仅供参考，不构成投资建议。投资者据此操作，风险自担。
互动平台精选 清溢光电
2024-04-30 21:19:23 4523436 阅读
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