打开APP
×
14:05
消息称三星计划量产的1c DRAM使用MOR光刻胶
《科创板日报》30日讯,三星正在考虑在其下一代DRAM极紫外(EUV)光刻工艺中应用金属氧化物抗蚀剂(MOR)。MOR被业内认为是下一代光刻胶(PR),会接棒目前先进芯片光刻中的化学放大胶(CAR)。三星正考虑在第6代10纳米DRAM(1c DRAM)中使用MOR,主要在六层或七层上使用EUV PR,相关产品将于今年下半年投入生产。 (TheElec)
半导体芯片
光刻胶
阅读 84991
特别声明:文章内容仅供参考,不构成投资建议。投资者据此操作风险自担。
相关新闻
独家|一汽加入蔚来、埃安牵手宁德 换电模式站上补能赛道C位
2小时前
大基金二期再出手!投了这家半导体零部件企业
21小时前
集成电路价格看“涨”声起 上市公司集体回应 供应链成本优化并将关注外延发展|直击业绩会
05月15日 11:16
相关企业家
联系Ta
联系企业家
为保护双方个人信息请联系您的专属助理进行接洽
我再想想
点击复制
复制成功,请去微信添加