国内薄膜铌酸锂光子芯片产业化取得重要进展

《科创板日报》12日讯，4月11日上午，南智先进光电集成技术研究院（简称“南智光电”）铌酸锂光子芯片产线启动仪式在新区举行。南京江北新区消息显示，本次启用的产线，具备了光刻、刻蚀、镀膜、研抛、湿法等系列核心技术工艺。这意味着国内薄膜铌酸锂光子芯片产业化取得重要进展。产线配备3.5亿元规模设备、5000平方米超净间，覆盖了整个产业链的核心工艺，月产能一千片晶圆。

①日本TDK公司当地时间周二(4月15日)宣称，其取得了一项重大光学技术突破；
                                    ②新技术的数据处理速度可达现有电子器件的10倍，从而有望解决制约生成式人工智能发展的关键瓶颈。

①该架构能拓展AI服务器能力，从目前使用铜互连的单个机架内的数十个XPU，拓展到横跨多个机架的数百个XPU。
                                    ②通过集成光学器件，XPU之间的连接可实现更快的数据传输速率，传输距离是电缆的100倍。
                                    ③英伟达、博通、台积电也在推进相关布局，分析师建议关注这些板块。