日企将为Rapidus量产尖端光掩模面向2nm制程

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14:00 日企将为Rapidus量产尖端光掩模面向2nm制程

《科创板日报》27日讯，日本公司DNP近日宣布，计划为Rapidus研发并量产用于2nm制程芯片的最尖端光掩模产品，预计2027年实现量产。此外，日本凸版（Toppan）公司也将开发最尖端的光掩模。 (日经中文网)

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