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直击业绩会|拓荆科技:公司设备产线累计流片量已超1.1亿片 持续发力三维集成领域设备领域
科创板日报记者 吴旭光
2023-05-10 星期三
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①从公司历年收入结构来看,公司PECVD业务占比在90%左右,且在近年来有所上升。其余SACVD和ALD设备等,合计占比低于10%。
②截至今年3月份,设备产品在客户端产线生产产品的累计流片量已经超过1.1亿片,并进入国内60多条产线。
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《科创板日报》5月10日讯(记者 吴旭光)“2022年,公司研发总投入为3.79亿元,同比增长31.37%;研发投入占营业收入的比例为22.21%,同比降低15.83%,研发投入占比趋于合理化。”拓荆科技董事长吕光泉在5月9日下午举行的业绩说明会上表示。

对此,在业绩会上,吕光泉解释,公司研发投入占比从2021年的38.04%减少至2022年的22.21%,主要是公司2022年公司的收入规模在迅速扩大,绝对值在增加,研发投入金额保持稳定的情况下,导致研发投入占比的增速有所放缓。

吕光泉在业绩会上介绍,在不断推进技术创新的背景下,目前公司产品广泛应用于28纳米以上的逻辑芯片、存储芯片以及先进的封装领域。

拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务,公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。

2022年,拓荆科技PECVD设备实现营业收入15.63亿元,较上年增长131.44 %;该收入占本年总营业收入92%,是公司主要收入来源;2022年,公司ALD设备实现营业收入0.33亿元,较上年增长13.85%;公司SACVD设备实现营业收入0.89亿元,同比增加117.39%。

从公司历年收入结构来看,公司PECVD业务占比在90%左右,且在近年来有所上升。其余SACVD和ALD设备等,合计占比低于10%。

对于拓荆科技PECVD收入占比较高,公司收入结构相对单一的情况,拓荆科技董秘办人士表示,PECVD设备是公司核心产品,收入占比较高,公司也会持续保持该产品在市场中的核心竞争优势。具体从市场规模来看,2022年,全球半导体设备市场规模为1076亿美元,其中,薄膜沉积设备投资额占晶圆制造设备环节的总投资的22%,而PEVCD设备约占薄膜沉积设备市场份额的33%左右,从客观上也决定了拓荆科技PEVCD产品的销售规模。

拓荆科技董秘办人士进一步解释,在PEVCD产品之外,公司也在积极拓展SACVD、ALD等产品。虽然目前从公司产品营收构成上看,SACVD设备、ALD设备收入占比较小,但这两款产品的销售收入增速是在逐年增加。

此外,由于产品收入结构单一,导致拓荆科技存在客户集中度过高的风险。根据公司财报,2022年,拓荆科技前五名客户销售额为11.56亿元,占年度销售总额67.80%。

前述董秘办人士表示,由于集成电路制造行业属于资本和技术密集型,国内外主要集成电路制造商均呈现经营规模大、数量少的行业特征。早在2018年-2021年9月,公司前五大客户主营业务销售金额占当期主营业务收入的比重更高,分别为100.00%、84.02%、83.78%和92.44%,这背后主要是当时国内下游晶圆设备产线较少,公司客户也相对单一,但随着近一年两下游应用市场日趋广泛,公司下游客户也更趋多元化,对前五大客户的销售集中度也有所降低。

谈及公司产品下游应用情况,在业绩会上,吕光泉表示,截至今年3月份,设备产品在客户端产线生产产品的累计流片量已经超过1.1亿片,并进入国内60多条产线,有效支撑了国内晶圆厂的大规模生产,未来几年公司产品的需求量仍以国内晶圆厂的扩产为主。

特别声明:文章内容仅供参考,不构成投资建议。投资者据此操作风险自担。
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